感應耦合電漿反應式離子蝕刻機 ICP RIE
  原理介紹書   使用指導書
放置地點    電機二館331室 指導教授 
管理員  張致綱,林宗賢 目前狀態 正常 預約狀態

 
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規格  感應耦合電漿反應式離子蝕刻機(Metal Reactive Ion Etching)
簡介  電漿耦合離子蝕刻機

 
訓練資訊        已合格 0   尚未合格0
檢定資訊         已合格433 尚未合格0